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硅 質(zhì)譜
本專題涉及硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)有16條。
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，硅 質(zhì)譜涉及到光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、分析化學(xué)、有機(jī)化學(xué)、半導(dǎo)體材料。
在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，硅 質(zhì)譜涉及到、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、一般有機(jī)化工原料、半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法、半金屬與半導(dǎo)體材料綜合。
中國(guó)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- T/YYHG 0003-2022 硅膠基質(zhì)反相色譜柱
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 40109-2021 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 硅中硼深度剖析方法
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- JIS K 0164:2023 表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜硅中硼深度分析方法
GSO，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- BH GSO ISO 17560:2016 表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜硅中硼深度分析方法
- OS GSO ISO 12406:2013 表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜法硅中砷的深度分析方法
- GSO ISO 17560:2013 表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜測(cè)定硅中硼深度數(shù)據(jù)的方法
- GSO ISO 12406:2013 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 測(cè)定硅中砷深度數(shù)據(jù)的方法
國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 32495-2016 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 硅中砷的深度剖析方法
- GB/T 24582-2009 酸浸取.電感耦合等離子質(zhì)譜儀測(cè)定多晶硅表面金屬雜質(zhì)
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 17560:2014 表面化學(xué)分析 - 二次離子質(zhì)譜法 - 硅在硅中深度分析的方法
- ISO 12406:2010 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜分析法.硅中砷的深度剖析法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-化工，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- HG/T 6153-2023 甲基氯硅烷中乙基二氯硅烷的測(cè)定 氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用法
KR-KS，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- KS D ISO 17560-2003(2023) 表面化學(xué)分析-二次離子質(zhì)譜分析-硅內(nèi)硼深度分布測(cè)定場(chǎng)法
- KS D ISO 14237-2003(2023) 表面下學(xué)分析-二次離子質(zhì)譜分析-硅內(nèi)均勻添加硼原子濃度的測(cè)定方法
工業(yè)和信息化部，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- YS/T 1300-2019 氯硅烷中甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、甲基三氯硅烷的測(cè)定 氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用法
英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于硅 質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 12406:2010 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜分析法.硅中砷的深度剖析法
