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高頻等離子體設(shè)備

本專題涉及高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)有95條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，高頻等離子體設(shè)備涉及到分析化學(xué)、工業(yè)爐、光纖通信、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、電子顯示器件、音頻、視頻和視聽工程、焊接、釬焊和低溫焊、集成電路、微電子學(xué)、陶瓷、IT終端和其他外圍設(shè)備、太陽能工程。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，高頻等離子體設(shè)備涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、、計(jì)算機(jī)圖形、焊接與切割設(shè)備、微電路綜合、視頻、脈沖系統(tǒng)設(shè)備、計(jì)算機(jī)外圍設(shè)備、廣播、電視發(fā)送與接收設(shè)備、工業(yè)電熱設(shè)備、廣播、電視設(shè)備綜合。


日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • NF ISO 23166:2019 鎳合金 - 鉭的測(cè)定 - 高頻等離子體發(fā)射光譜法
  • NF EN 15605:2010 銅和銅合金 高頻感應(yīng)等離子體源發(fā)射光譜分析
  • NF EN ISO 22036:2024 環(huán)境固體基質(zhì) 高頻等離子體發(fā)射光學(xué)光譜 (ICP-OES) 的元素劑量
  • NF A85-009-8*NF EN 60974-8:2009 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割設(shè)備用氣體控制臺(tái)
  • NF EN ISO 11885:2009 水質(zhì) - 通過高頻誘導(dǎo)等離子體發(fā)射光譜法 (ICP-OES) 測(cè)定所選元素
  • NF ISO 22036:2009 土壤質(zhì)量 高頻誘導(dǎo)等離子體原子發(fā)射光譜法 (ICP-AES) 測(cè)定土壤提取物中的微量元素
  • NF EN 15765:2010 食品.微量元素的測(cè)定.壓力消解后用高頻誘導(dǎo)等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）測(cè)定錫
  • NF EN 61966-5:2015 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 - 顏色測(cè)量和管理 - 第 5 部分：使用等離子顯示器的設(shè)備
  • NF A85-009-8*NF EN IEC 60974-8:2021 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • NF EN IEC 60974-8:2021 弧焊設(shè)備 - 第 8 部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • NF EN 16317+A1:2017 基礎(chǔ)礦物肥料和改良劑 王水消化后高頻誘導(dǎo)等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）測(cè)定砷
  • NF EN 16317/IN1:2017 基礎(chǔ)礦物肥料和改良劑 王水消化后高頻誘導(dǎo)等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）測(cè)定砷
  • NF ISO 10540-3:2003 動(dòng)植物來源的脂肪.磷含量的測(cè)定.第3部分:高頻誘導(dǎo)等離子體發(fā)射光譜法
  • NF EN 15111:2007 食品 微量元素的測(cè)定 高頻誘導(dǎo)等離子體發(fā)射光譜法和質(zhì)譜儀（ICP-MS）測(cè)定碘
  • NF C90-605*NF EN 61966-5:2015 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備
  • NF EN 17374:2020 動(dòng)物飼料 取樣和分析方法 用陰離子交換高效液相色譜法和高頻誘導(dǎo)等離子體質(zhì)譜法測(cè)定動(dòng)物飼料中無機(jī)砷含量
  • NF A85-009-8:2005 電弧焊設(shè)備.第8部分:焊接和等離子切割系統(tǒng)用氣體控制臺(tái)
  • NF EN 16171:2016 污泥、處理過的生物廢物和土壤 - 高頻誘導(dǎo)等離子體質(zhì)譜法 (ICP-MS) 測(cè)定微量元素
  • NF EN 14107:2003 脂肪衍生產(chǎn)品 脂肪酸甲酯（FAME） 高頻誘導(dǎo)等離子體發(fā)射光譜法（ICP 法）測(cè)定磷含量
  • NF ISO 21033:2016 動(dòng)植物來源的脂肪 高頻誘導(dǎo)等離子體發(fā)射光譜法（ICP-OES）測(cè)定脂肪中的微量元素
  • NF EN 17050:2017 動(dòng)物飼料 取樣和分析方法 高頻誘導(dǎo)等離子體質(zhì)譜法（ICP-MS）測(cè)定動(dòng)物飼料中的碘
  • NF EN 16319/IN1:2016 基礎(chǔ)礦物肥料和改良劑 王水消解后高頻誘導(dǎo)等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）測(cè)定鎘、鉻、鉛和鎳
  • NF EN 16319+A1:2016 基礎(chǔ)礦物肥料和改良劑 王水消解后高頻誘導(dǎo)等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）測(cè)定鎘、鉻、鉛和鎳
  • NF EN ISO 26845:2008 耐火材料化學(xué)分析濕化學(xué)分析方法、原子吸收光譜法（AAS）和高頻誘導(dǎo)等離子體原子發(fā)射光譜法的一般要求
  • NF EN 16170:2016 污泥、處理過的生物廢物和土壤 通過高頻誘導(dǎo)等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)定微量元素
  • NF EN ISO 15151:2020 牛奶、乳制品、嬰兒配方食品和成人營(yíng)養(yǎng)品 礦物質(zhì)和微量元素含量的測(cè)定 高頻誘導(dǎo)等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）方法
  • NF EN ISO 14720-2:2013 耐火制品原材料的測(cè)試 - 粉末和顆粒形式的非氧化原材料中硫的測(cè)定 - 第 2 部分：高頻誘導(dǎo)等離子體發(fā)射光譜法...
  • NF EN 15591:2016 陶瓷和基礎(chǔ)材料的測(cè)試 - 通過高頻誘導(dǎo)等離子體發(fā)射光譜法（ICP OES...直接測(cè)定碳化硅粉末和顆粒中雜質(zhì)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)

韓國(guó)科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-農(nóng)業(yè)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • GB 10725-1989 化學(xué)試劑 電感耦合高頻等離子體原子發(fā)射光譜法通則

中國(guó)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • T/QGCML 892-2023 等離子體化學(xué)氣相沉積光纖預(yù)制棒制備設(shè)備
  • T/CPIA 0065-2024 異質(zhì)結(jié)電池用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積（PECVD）設(shè)備

英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • BS EN 61966-5:2001 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備.顏色測(cè)量和管理.使用等離子體展示板的設(shè)備
  • BS EN 60974-8:2009 弧焊設(shè)備.第8部分:焊接和等離子切割設(shè)備用氣體控制臺(tái)
  • BS EN 60974-8:2004 弧焊設(shè)備.焊接和等離子切割系統(tǒng)用氣體控制臺(tái)
  • BS EN 61966-5:2009 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備.顏色計(jì)量和管理.使用等離子顯示器的設(shè)備
  • BS EN IEC 60974-8:2021 弧焊設(shè)備 用于焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • 19/30393201 DC BS EN IEC 60974-8 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • BS ISO 21859:2019 精細(xì)陶瓷（先進(jìn)陶瓷、先進(jìn)技術(shù)陶瓷） 半導(dǎo)體制造設(shè)備中陶瓷元件耐等離子性的測(cè)試方法

德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • DIN EN 60974-8:2004 電弧焊設(shè)備.第8部分:焊接和等離子切割設(shè)備用氣體控制臺(tái)
  • DIN EN 61966-5:2010-02 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備
  • DIN EN 60974-8:2016 電弧焊設(shè)備.第8部分:焊接和等離子切割設(shè)備用氣體控制臺(tái)(IEC 60974-8-2009).德文版本EN 60974-8-2009
  • DIN EN 61966-5:2010 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備.顏色測(cè)定和管理.第5部分:使用等離子顯示屏的設(shè)備(IEC 61966-5-2008).德文版本EN 61966-5-2009

美國(guó)國(guó)防后勤局，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

KR-KS，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • KS L ISO 21859-2023 精細(xì)陶瓷（高級(jí)陶瓷、高級(jí)工藝陶瓷）半導(dǎo)體制造設(shè)備中陶瓷元件耐等離子體性試驗(yàn)方法
  • KS C IEC 60974-8-2022 弧焊設(shè)備.第8部分:焊接和等離子切割系統(tǒng)用氣體控制臺(tái)

歐洲電工標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • EN 60974-8:2009 電弧焊接設(shè)備.第8部分:焊接和等離子切割設(shè)備用氣體控制臺(tái)
  • EN IEC 60974-8:2021 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • EN 61966-5:2009 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • SJ/T 11829.1-2022 晶體硅光伏電池用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積（PECVD）設(shè)備 第1部分：管式PECVD設(shè)備
  • SJ/T 11829.2-2022 晶體硅光伏電池用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積（PECVD）設(shè)備 第2部分：板式PECVD設(shè)備

國(guó)際電工委員會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • IEC 61966-5:2000 多媒體系統(tǒng)與設(shè)備 色彩測(cè)量和管理 第5部分:使用等離子顯示屏的設(shè)備
  • IEC 61966-5:2008 多媒體系統(tǒng)與設(shè)備.色彩測(cè)量和管理.第5部分:使用等離子顯示屏的設(shè)備
  • IEC 60974-8:2004 弧焊設(shè)備.第8部分:焊接和等離子切割系統(tǒng)用氣體控制臺(tái)
  • IEC 60974-8:2021 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)

丹麥標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • DS/EN 60974-8:2009 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • DS/EN 61966-5:2009 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備

RU-GOST R，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • GOST IEC 60974-8-2014 弧焊設(shè)備. 第8部分. 焊接和等離子切割系統(tǒng)用氣體控制臺(tái)

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • IEC 60974-8:2021 RLV 弧焊設(shè)備 第 8 部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)

ES-UNE，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • UNE-EN IEC 60974-8:2021 弧焊設(shè)備 - 第 8 部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)

歐洲標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • EN 60974-8:2004 弧焊設(shè)備.第8部分:焊接和等離子切割系統(tǒng)用氣體控制臺(tái)

SCC，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • CEI EN 60974-8:2011 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • DANSK DS/EN 60974-8:2009 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • UNE-EN 61966-5:2001 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 色彩測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備
  • CEI EN 61966-5:2012 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備
  • DANSK DS/EN 61966-5:2009 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備
  • UNE-EN 60974-8:2004 電弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • CEI EN IEC 60974-8:2022 電弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • DANSK DS/EN IEC 60974-8:2021 電弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • 07/30164535 DC BS EN 60974-8 電弧焊設(shè)備 第8部分 焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • DIN EN IEC 60974-8:2022 電弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)用氣體控制臺(tái) (IEC 60974-8:2021)
  • ANSI/IEC 60974-8-2009(R2020) 美國(guó)國(guó)家弧焊設(shè)備標(biāo)準(zhǔn) 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • DIN IEC 60974-8 E:2007 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái) (IEC 26/352/CD:2007) 草案
  • DIN EN 61966-5 E:2008 草案文件 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 色彩測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備 (IEC 100/1295/CDV:2007)

GSO，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • GSO IEC 60974-8:2014 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • BH GSO IEC 60974-8:2016 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)
  • GSO IEC 61966-5:2015 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備

AENOR，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • UNE-EN 61966-5:2010 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備
  • UNE-EN 60974-8:2009 弧焊設(shè)備 第8部分：用于焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)

CENELEC - European Committee for Electrotechnical Standardization，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • EN 61966-5:2001 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備

未注明發(fā)布機(jī)構(gòu)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • DIN EN 61966-5:2001 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備顏色測(cè)量和顏色管理 第5部分：帶等離子顯示器的設(shè)備

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-商品檢驗(yàn)，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • SN/T 1603.2-2005 進(jìn)出口音視頻及類似電子設(shè)備檢驗(yàn)規(guī)程 第2部分:等離子電視機(jī)和投影電視機(jī)

NEMA - National Electrical Manufacturers Association，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • NEMA IEC 60974-8:2008 弧焊設(shè)備第8部分：用于焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)

國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • GB/T 10066.5-2014 電熱裝置的試驗(yàn)方法 第5部分:電熱和電化學(xué)用等離子體設(shè)備

IEC - International Electrotechnical Commission，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • IEC 60974-8:2009 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)（2.0 版）

立陶宛標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • LST EN 61966-5-2009 多媒體系統(tǒng)和設(shè)備 顏色測(cè)量和管理 第5部分：使用等離子顯示面板的設(shè)備（IEC 61966-5:2008）
  • LST EN 60974-8-2009 弧焊設(shè)備 第8部分：焊接和等離子切割系統(tǒng)的氣體控制臺(tái)（IEC 60974-8:2009）

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • ISO 21859:2019 精細(xì)陶瓷（先進(jìn)陶瓷 先進(jìn)技術(shù)陶瓷） - 半導(dǎo)體制造設(shè)備中陶瓷部件的等離子體電阻試驗(yàn)方法

IECQ - IEC: Quality Assessment System for Electronic Components，關(guān)于高頻等離子體設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)

  • PQC 74-1987 電工設(shè)備用射頻電纜：空白詳細(xì)規(guī)范：最高中心導(dǎo)體溫度為 85 攝氏度時(shí)使用的柔性射頻電纜評(píng)估等級(jí) U


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