ASTM F2113-01(2007)
電子薄膜用高純金屬濺射靶材純度等級及雜質含量分析和報告標準指南

Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications

被代替

標準號

ASTM F2113-01(2007)

發布

2007年

發布單位

美國材料與試驗協會

替代標準

ASTM F2113-01(2011)

當前最新

ASTM F2113-01(2011)

 

 

ASTM F2113-01(2007)相似標準