化學氣相沉積法(CVD)-精準測溫薄膜沉積的化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸汽,以合理的氣流引入工藝腔室,在襯底表面發生化學反應并在襯底表面上沉積薄膜。該工藝制備的薄膜具有很好的化學配比,針孔數量少,具有應力控制能力,但對工藝參數,如溫度、壓強、流場等的變化較為敏感,因此需要精準測量該工藝中基材的溫度。...
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