HB 6731.12-2005
鋁合金化學成分光譜分析方法 第12部分：電感耦合等離子體原子發射光譜法測定硅含量
Mtehods for spectromertic analysis of aluminium alloys--Part 10:Determination of silicon content by inductivel coupled plasma atomic spectrometric method
- 標準號
- HB 6731.12-2005
- 發布
- 2005年
- 總頁數
- 6頁
- 發布單位
- 行業標準-航空
- 當前最新
- HB 6731.12-2005
- 引用標準
- HB 5218.6-2004 HB 5421 HB/Z 207
- 適用范圍
- 警告--使用本部分的人員應有正規實驗室工作的實踐經驗。本部分并未指出所有可能的安全問題。使用者有責任采取適當的安全和健康措施，并符合國家有關法規規定的條件。 本部分規定了用電感耦合等離子體原子發射光譜法（ICP-AES 法）測定鋁合金中硅含量的原理、試劑、儀器、分析步驟、分析結果的計算、允許差和質量控制與要求。 本部分適用于鋁合金中硅含量的測定。 測定范圍: 0.05%～12.00%.
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